IT 서비스 전문업체인 오픈베이스의 자회사인 나노베이스가 광 정렬 장치와 관련된 특허를 다섯 번째 취득했다고 밝혔다.

나노베이스가 이번에 특허를 취득한 것은 정밀 정렬이 필요한 광학류 제품에서 광 소스의 위치와 초점을 자동으로 보정하는 기술이다.

나노베이스는 이 기술을 토대로 엑스퍼레이 FAC (Xperay Fiber Auto Calibrator)란 제품을 개발했다. 일반 휴대폰 크기 정도인 엑스퍼레이 FAC를 기본 모듈로 구성하면, 복잡하고 큰 대형 정밀 스테이지를 적용하지 않더라도, 짧은 시간 안에 정확한 정렬을 보장할 수 있다.

나노베이스 측은 “광학 기술은 미세 가공에서부터 초고속 통신에 이르는 광범위한 차세대 기술의 기반이 되고 있다. 레이저를 이용해 미세 가공이나 표면을 바꾸는 기술, 의학용 메스나 특정 세포를 선별해 제거하는 기술, 광학 매체를 이용해 데이터를 재생하는 기술 등이 단적인 예다. 이러한 광학 기술을 이용한 장치의 경우, 광 정렬이 어긋날 경우 광 전달 효율이 크게 떨어진다”며 이번 기술의 특허 취득 의의를 밝혔다. 일반적인 광섬유 정렬 방식으로 쓰이는 틸트 스테이지는 시간이 오래 걸릴 뿐만 아니라 사람마다 편차가 발생해 신뢰성이 떨어진다는 단점이 있다고 한다.

나노베이스는 이달 27일부터 열리는 한국기계전 내 국산연구장비전에 참여해 이번에 특허를 취득한 엑스퍼레이 FAC 등의 제품을 전시할 계획이다.

한편 나노베이스는 최근 일본 업체와도 리셀러 계약을 체결했으며, 올해 안에 유럽 지역에도 진출할 계획이라고 밝혔다.