▲ 삼성전자가 3일 서울 그랜드 인터컨티넨탈 파르나스 호텔에서 '삼성파운드리 포럼 2019 코리아' 행사를 열고 고객과 파트너들에게 다양한 파운드리 솔루션을 선보였다. (출처 : 삼성전자)

삼성전자는 3일 서울 그랜드 인터컨티넨탈 파르나스 호텔에서 ‘삼성 파운드리 포럼 2019 코리아’를 개최했다고 밝혔다. 

이번 포럼에는 작년보다 약 40% 증가한 500명 이상의 팹리스 고객과 파운드리 파트너가 참석했다. 

또한 첨단 파운드리 기술 트렌드를 공유하는 전시 부스 운영에도 참여 기업이 2배 가량 증가, 삼성전자의 ‘반도체 비전 2030’ 선포 이후 높아진 국내 시스템 반도체 업계의 관심을 반영했다. 

앞서 지난 4월, 삼성전자는 133조원 투자와 1만 5000명 고용 창출을 통해 2030년까지 시스템 반도체 글로벌 1위를 달성하겠다는 ‘반도체 비전 2030’을 선포한 바 있다.

삼성전자는 이번 포럼에서 인공지능(AI), 5G, 전장, IoT 등 4차 산업혁명 시대를 주도할 최신 EUV공정 기술부터 저전력 FD-SOI, 8인치 솔루션까지 폭 넓은 파운드리 포트폴리오를 소개했다. 

정은승 삼성전자 파운드리사업부 사장은 기조연설에서 “삼성전자는 반도체 불모지에서 사업을 시작해 역경을 딛고 업계 1위에 오른 경험이 있다”며 “파운드리 분야의 최고를 향한 여정도 쉽지 않겠지만 난관을 헤치고 함께 성장해 나갈 수 있게 관심과 응원을 부탁 드린다”고 말했다.

이어 정 사장은 “국내 팹리스 기업이 신시장을 비롯한 다양한 분야에서 활약할 수 있도록 디자인 서비스, 제조, 패키지 등 개발부터 양산까지 협력 생태계를 활성화해 시스템 반도체 산업 발전에 기여하겠다”고 밝혔다.

삼성전자는 국내 중소 팹리스 기업의 수요가 높은 8인치 웨이퍼 공정과 12인치 웨이퍼 공정 등 기술력을 통해 고객의 다양한 요구를 만족시키고자 노력하고 있다.

이장규 팹리스 반도체 업체 텔레칩스 대표는 “올해 스무살이 된 텔레칩스는 삼성의 파운드리 기술 발전과 함께 성장해 왔다고 해도 과언이 아니다”며 “뛰어난 제품으로 시장 경쟁력을 더욱 높여 가기 위해 현재 협력 중인 14나노에 이어 10나노미터 이하 미세 공정에서도 탄탄한 협력을 이어 나갈 계획”이라고 말했다.

삼성전자는 또 국내 팹리스 기업에게 7나노 이하 EUV 기반 초미세 공정도 제공, 차세대 첨단 제품 개발을 지원해 국내 시스템 반도체 산업의 경쟁력 확보에도 기여해 나갈 계획이다. 

덧붙여 팹리스 기업이 삼성의 파운드리 공정 기술과 서비스를 보다 쉽게 활용할 수 있도록 반도체 디자인하우스를 비롯해 설계자산(IP), 자동화 설계 툴(EDA), 조립테스트(OSAT)까지 국내 파운드리 파트너들과 협력을 확대해 나갈 예정이다.

한편 삼성전자는 2019년 4월, 저전력 28나노 FD-SOI 공정 기반 eMRAM 솔루션 제품과 EUV 노광 기술을 적용해 성능과 수율을 높인 7나노 핀펫 제품을 출하와 차세대 5나노 공정 개발을 공개하는 등 파운드리 기술을 선도하고 있다.

특히 전류가 흐르는 통로인 원통형 채널(Channel) 전체를 게이트(Gate)가 둘러싸 전류의 흐름을 더 세밀하게 제어할 수 있는 차세대 트랜지스터 구조의 3나노 GAE(3나노 Gate-All-Around Early) 공정 설계 키트(PDK v0.1, Process Design Kit)를 팹리스 기업에게 배포하기도 했다.

<박시현 기자>pcsw@bikorea.net